干法刻蝕中的等離子體

干法刻蝕工藝是利用氣體中陰陽粒子解離后的等離子體來進行刻蝕的。所謂的等離子體，宇宙中99%的物質(zhì)，均處于等子狀態(tài)。其中包含了中性的粒子、離子和電子，它們混合在一起，表現(xiàn)為電中性。在干法刻蝕中，氣體中的分子和原子，通過外部能量的激發(fā)，形成震蕩，使質(zhì)量較輕的電子脫離原子的軌道與相鄰的分子或原子碰撞，釋放出其他電子，在這樣的反復(fù)過程中，最終形成氣體離子與自由活性激團。而干法刻蝕，則利用了氣體等離子體中的自由活性激團與離子，與被刻蝕表面進行反應(yīng)，以此形成最終的特征圖形。